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CARACTERIZACIÓN POR MICROSCOPÍA ELECTRÓNICA ANALÍTICA DE LA EVOLUCIÓN MICROESTRUCTURAL DEL COMPUESTO CuIn3Se5 DURANTE EL CRECIMIENTO
Y. Paredes, B. Hidalgo, G. Marin, L. Prin.
Instituto de Investigaciones en Biomedicina y Ciencias Aplicadas, Universidad de Oriente, Sucre. Centro de Estudios de Semiconductores, Facultad de Ciencias, Universidad de los Andes, Mérida. [email protected], [email protected], [email protected], [email protected]

Resumen

La técnica de Microscopía Electrónica Analítica ha sido utilizada en este estudio para determinar los defectos estructurales resultantes del proceso de crecimiento del compuesto semiconductor ternario CuIn3Se5. El estudio por espectroscopía de energía dispersiva (EDS) proporcionó la composición química del compuesto, obteniéndose de estos resultados una estequeometría bastante alejada a la ideal 1:3:5. Los resultados del análisis microestructural revelaron la existencia de un número significativo de dislocaciones desalineadas (misfit dislocations) y dislocaciones trenzadas (treading dislocations) en todas las muestras observadas. Estas dislocaciones, generadas durante el crecimiento, pueden resultar posiblemente de la desviación de la estequeometría ideal del compuesto.
Palabras Clave: Semiconductores, Crecimiento de Cristales, Microscopía Electrónica Analítica, Dislocaciones.

Abstract

Analytical electron microscopy has been used to study the structural defects resulting from the crystal growth process of the semiconductor compound CuIn3Se5. The chemical composition of the compound obtained using energy dispersive x-ray spectroscopy (EDS), showed a sotichiometry 1: 4.83 : 9.16 far from the ideal value of 1: 3: 5. The microestructural analysis by transmission electron microscopy evidenced the existence of significant number of misfit and treading dislocations. It was concluded that the dislocations observed are generated during the crystal growth process, due to tension between contiguous layers associated with structural effects of the deviation from the ideal stoichiometry.
Keywords: Semiconductors, Crystal Growth, Analytical Electron Microscopy, Dislocations.



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